等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

　　等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成。是物質(zhì)的第四態(tài)。通常情況下，人們普遍認(rèn)為的物質(zhì)有三態(tài)：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。區(qū)分這三種狀態(tài)是靠物質(zhì)中所含能量的多少。氣態(tài)是物質(zhì)的三個狀態(tài)中高的能量狀態(tài)。給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當(dāng)?shù)竭_(dá)等離子狀態(tài)時，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結(jié)合，形成原來的氣體分子。

　　等離子體技術(shù)在本世紀(jì)六十年代起就開始應(yīng)用于化學(xué)合成、薄膜制備、表面處理和精細(xì)化工等領(lǐng)域，在大規(guī)模或超大規(guī)模集成電路工藝干法化、低溫化方面，在近年來也開發(fā)應(yīng)用了等離子體聚合、等離子體蝕刻、等離子體灰化及等離子體陽極氧化等全干法工藝技術(shù)。等離子清洗技術(shù)也是工藝干法化的進步成果之一。與濕法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中為*的剝離式的清洗。

　　等離子清洗機又名電漿機，等離子表面處理設(shè)備。光從名稱上來看，清洗并不是清洗，而是處理和反應(yīng)。從機理上看：在清洗時通入工作氣體在電磁場的作用下所激發(fā)的等離子與物體表面產(chǎn)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。其中，物理反應(yīng)機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面終被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)，從而達(dá)到清洗目的。

　　我們的工作氣體，經(jīng)常用到氫氣（H2）、氮氣（N2）、氧氣（O2）、氬氣（Ar）、甲烷（CF4）等。在此過程中很容易對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等進行處理。這樣以來讓我們很容易聯(lián)想到：去除零件上的油污，去除手表上的拋光膏，去除線路板上的膠渣，去除DVD上的水紋等等所延伸的領(lǐng)域大都能用等離子清洗機解決。