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等離子表面處理儀

更新時間:2024-05-07

瀏覽次數(shù):3967

簡要描述:

供應(yīng)SAT 210等離子表面處理儀,等離子表面處理儀
1.實時檢測和顯示真空度,真空度準確使得機器在智能控制下有了可靠的依據(jù)。
2.設(shè)備自動模式下:真空啟動值可以自由設(shè)定(范圍:1—80帕)這樣就為外加氣體提供了可靠的輝光啟動環(huán)境,使得輝光保持更高純度,有力的保證了實驗效果的準確性和可靠性。
3.艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料,耐用防低腐蝕。
4.采用電容式 Plasma激發(fā),實驗效果穩(wěn)定,均勻可靠,電極板置于樣品倉內(nèi)頂部懸掛.

品牌 賽奧特(SAT) 品牌 賽奧特(SAT)
經(jīng)營方式 廠家直銷

                                             SAT 210  等離子表面處理儀

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應(yīng)用領(lǐng)域

適用于材料科學、光學、光電子學、生命科學、電子學、生物醫(yī)學、半導體、高分子科學、微觀流體學等領(lǐng)域.

主要實驗應(yīng)用

  1.表面清潔 2.表面活化 3.鍵合 4.去膠 5.金屬還原 6.簡單刻蝕 7.去除表面有機物  8.疏水實驗  9.沉積實驗  10.形成新的基團  11.鍍膜前處理等

技術(shù)特點

1.實時檢測和顯示真空度,使得設(shè)備在智能控制下有了可靠的依據(jù).

2.真空值可自由設(shè)定,(范圍:10—60)為外加氣體提供了可靠的輝光啟動環(huán)境,為輝光純度提供了有利的保障,保證了實驗效果的準確性和可靠性.

3.真空腔體采用鉸鏈側(cè)開門結(jié)構(gòu),帶有觀察窗,材料為6061材質(zhì).

4.腔體、管路、閥體全部為不銹鋼材料.

5.電容式(CCP)激發(fā),實驗效果穩(wěn)定,均勻可靠,電極板置于樣品倉內(nèi)頂部懸掛.

6.采用觸摸屏顯示控制,手動,自動兩種模式任意切換.

7.程序化設(shè)計,預先編輯好程序,儀器自動完成實驗.

8.利用氣體電離后產(chǎn)生的等離子體的反應(yīng)活性與材料表面發(fā)生的物理或者化學反應(yīng),使材料表面成分、組成和結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,并能得到某些特定的基團。

9.無需耗材,使用成本低,無需特殊進行維護,在日常使用中保持儀器清潔即可。

等離子表面處理儀技術(shù)規(guī)格

1.樣品腔體尺寸:255(深度)X110(直徑)mm ,不銹鋼材質(zhì).

2.放置樣品托盤尺寸:105()X230(長)mm,材質(zhì):6061鋁氧化本色

3.射頻頻率:40KHz .

4.射頻功率:200W,0200W可調(diào),精度:1.

5.輝光放電功率:10W--200W

6.輝光放電時間設(shè)定:1秒到9959.

7.氣路設(shè)置:3氣路(2路進氣,一路放空).

8.工作氣體穩(wěn)定時間:可調(diào),可設(shè)定,范圍:0--180.

9.進氣控制:兩路浮子流量計控制

10.工作氣體:空氣\氮氣\氬氣\氮氫混合氣\氬氦混合氣等均可; 也可接入無腐蝕性、無毒的工作液體溶液,例如:六甲基二硅氧烷(HMDSO),接入工作液體需要選配接枝儀來配套使用。

11.進氣壓力:通入空氣時常壓,接入鋼瓶時,鋼瓶進氣壓力調(diào)整到0.1-0.2Mpa

12.供電電源:~220V50Hz

13.外形尺寸(寬**高)mm:440ⅹ490ⅹ485

14.整機重量(約):20Kg

真空泵  

標準配置為機械油泵:1)抽速:2/2)極限壓強:6*10-2  3)噪音;≤66db 4)抽氣KF16法蘭接口,排氣口KF25接口 5)電源線為陰插線

基本配置

主機+真空系統(tǒng)(雙極機械真空油泵、油霧過濾器、真空管、KF16法蘭)、外加氣體軟管、樣品托盤、說明書、電源線、合格證

七 選配件

(一)機械油泵 型號:VRD-8

1.抽速:2.2/ 2.極限壓強:≤5*10-2 3.噪音;≤56db   4.工作環(huán)境溫度:5—45

(二)干泵(1 型號:GWSP150

1.抽速:2/ 2.極限壓強:≤63.噪音;≤57db  4.工作環(huán)境溫度:5--45℃

  干泵(2)型號: SPH10

1.抽速:2.8/2.極限壓強:≤2 3.噪音;≤55db

4.工作環(huán)境溫度:5--45℃

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八  操作方法
 
1、準備工作:首先需檢查設(shè)備是否正常,確認所有連接線路是否牢固。開啟氣源和電源,并進行預熱等操作。
 
2、樣品處理:將待處理的樣品放置于等離子體區(qū)域內(nèi),對其進行清潔處理以去除表面污物和水分??梢允褂没瘜W溶液、超聲波浴等方式進行清洗。
 
3、等離子體處理:開啟等離子體電源,通過調(diào)節(jié)電壓、頻率等參數(shù)控制等離子體的形成和強度。進行等離子體表面處理,一般處理時間在數(shù)分鐘到數(shù)小時之間。
 
4、停止處理:處理完成后,關(guān)閉電源和氣源,切勿直接取出樣品。需先關(guān)閉等離子體電源,停止等離子體的產(chǎn)生,等待等離子體消散后再取出樣品。
 
5、清洗維護:處理完畢后需要對設(shè)備進行清洗和維護,防止殘留的化學物質(zhì)對設(shè)備造成損壞或影響下次使用效果。

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